新材料事業

Advansic／半導体製造装置用部品
SiCセラミック部品

特性

高純度
高密度
高熱伝導性

特徴

ウエハへの金属汚染が少ない
脱ガス、パーティクルが少ない
加熱冷却が早く、熱応答性が良い

製品例

※表は横にスライドしてご覧いただけます。

応用分野	製品例
プラズマエッチング装置	シャワープレート、フォーカスリングなど
プラズマCVD装置・熱CVD装置	サセプターなど
熱処理装置	サセプター、ウエハホルダーなど

Fig.1 フォーカスリング

Fig.2 シャワープレート

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