研究開発

当社製ESCは、従来のウェハ吸着機能に加え、ヒータ加熱機能を持ち、ウェハ表面温度の均一性と優れた制御性を実現します。

当社の導電性イットリアは、導電物質の添加量と分散状態の調節により、広い範囲での導電性制御が可能です。
また、導電性を持たせていますが、高い耐ハロゲンガスプラズマ耐性を有しており、半導体製造装置用途に適しています。