新材料関連 半導体製造装置用部品

静電チャック

結晶性の高いZrO2ナノ粒子をシングルnmサイズで各種分散媒に分散可能。⇒高屈折率で透明性の高いZrO2分散体が得られます。

特長

●広温度域に対応出来ます。(室温~200℃)
●吸着・離脱特性に優れています。(2秒以内)
●表面状態が優れています。(Ra<0.01µm)
●冷却特性に優れています。(30w/mK)
●吸着表面の金属汚染及びパーティクル量が低減できます。
(<1010 atoms・cm-2)(↑0.21µm<500/8inch-wafer)
●フロン系、酸素系プラズマの耐性に優れています。
●長寿命

Items  
Purity(Except Al Si) PMMA 4N
Contamination to Sillion Wafer atoms/cm2 <1010
Particles on Sillicon Wafer Counts/8inch <500
Operation Temperature -200→R.T.
R.T.→200
Chucking Force(without dot) gf/cm2 >2500
Chucking / Dechucking Time sec <2
Seal of Back Side Gas(5kPa) sccm <0.5
Thermal Conductivityat R.T. W/mk 30
at 200℃ 22
Flatness of Chucking Surface µm 2
Surface Roughness µm 0.01

LCD用静電チャック

Type of glass Film
on glass
Thickness
of glass
Chucking force
(gf/cm2)
De-
chucking
None alkali
glass
TFT 0.5 6.3 (at ±2500V)
None alkali
glass
Color
filter
0.5 6.0 (at ±2500V)
None alkali
glass
ITO 0.7 7.0 (at ±2500V)
None alkali
glass
ITO 0.5 8.3 (at ±2500V)
Soda lime
glass
ITO 0.4 10.6 (at ±500V) ---
Soda lime
glass
ITO 0.55 8.6 (at ±1000V) ---
Quartz ITO 1.2 3.3 (at ±4000V)

◎:Chucking-force is less than 1 gf/cm2

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