新技術研究所 新材料研究

セラミックス電子材料

プラズマCVD-SiCナノ粒子を出発源として、大型セラミックス焼成技術を組み合わせ、特長ある半導体製造装置用部品に応用する材料・部材開発を進めています。

ヒータ付ESC

当社製ESCは、従来のウェハ吸着機能に加え、ヒータ加熱機能を持ち、ウェハ表面温度の均一性と優れた制御性を実現します。

イットリア系セラミックス(導電性イットリア)

当社の導電性イットリアは、導電物質の添加量と分散状態の調節により、広い範囲での導電性制御が可能です。
また、導電性を持たせていますが、高い耐ハロゲンガスプラズマ耐性を有しており、半導体製造装置用途に適しています。

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